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正胶显影液188081用于金属铝或钼铝叠膜显影制程,对金属铝及钼铝复合层的腐蚀性低,有效保护金属线条
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正胶剥离液188681
正胶剥离液188681通过剥离液,可快速、有效地去除正性光刻胶。
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解决方案
/ Solution
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蚀刻液
氢氟酸
正胶显影液
聚丙烯酰胺
成立于
2001
年
承接项目
3000
+
科技人员
220
人
关于我们
/ About
化学品和水处理药剂提供商
苏州威木斯材料科技有限公司成立于2015年,坐落于江苏省昆山经济技术开发区,是一家集研发生产销售于一体的企业。 我们拥有学识渊博、技术精干、经验丰富的技术团队,为客户提供解决方案。我们敢于创新、勇于突破。由于我们始终立足于提供现代工业化学药品服务,结合对制程的理解以及严谨的技术服务体系,力争成为受...
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成功案例
/ Cases
氢氟酸
专注于提供现代工业化学药品服务产品涵盖高纯化学试剂、半导体集成电路、光电、太阳能光伏、PCB制造、电镀、制药、食品 、环保水处理化学品等行业主营产品:电子级化学品EL
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显影液
专注于提供现代工业化学药品服务产品涵盖高纯化学试剂、半导体集成电路、光电、太阳能光伏、PCB制造、电镀、制药、食品 、环保水处理化学品等行业主营产品:电子级化学品EL
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聚炳希酰胺
注于提供现代工业化学药品服务产品涵盖高纯化学试剂、半导体集成电路、光电、太阳能光伏、PCB制造、电镀、制药、食品 、环保水处理化学品等行业主营产品:电子级化学品EL级
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新闻资讯
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30
2022-12
氢氟酸
氢氟酸 应用于半导体工业除去硅表面的氧化物
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氢氟酸
2022-12-30
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